Experiment Apparatus實驗室與設備

實驗室名稱 :
X光繞射實驗室
指導教授 :
蔡定侃
協同教授 :
方昭訓
研究方向 :
X光於1895年由德國物理學家Rontgen所發現,X光的發現對人類科技、工業及醫藥的發展有相當重要的貢獻。由於X光的發現與研究,奠立了今日相關科技的發展基礎,尤其對材料科技的研究發展更是影響深遠。X光繞射分析是解析材料晶體結構最有效的工具之一,應用於相鑑定、相之組成分析、殘留應力分析、texture測定分析和晶粒粒度量測,近年來利用低角度X光入射法(grazing incidence),明顯增強薄膜的繞射訊號,逐漸成為薄膜分析的一項利器。
本實驗室提供教學訓練,讓學生熟悉利用X光繞射分析進行相鑑定及組成含量分析。提供教師研究及相關實驗分析。
重點設備 :
 
                                                       X光繞射儀